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碳化硅清洗劑
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碳化硅清洗劑SC181是我司專為碳化硅晶片超精密加工研發(fā)的水基清洗劑，可以徹底清除碳化硅晶片表面的微塵、細微顆粒物、有機物、金屬離子、金屬氧化物、殘留拋光液等污染物。 利用化學剝離的原理有效將鍵入在硅片表面的各種污染物去除，清洗劑中的活性物質可以吸附在硅片表面，使其長期處于易清洗的物理吸附狀態(tài)（>120h），而不像難清洗的化學吸附狀態(tài)轉化，并在表面形成保護層，防止顆粒的二次吸附，實現了把有害
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