低目數(shù)的砂紙，如 40# - 80#，磨粒較大且間距較寬。在磨樣時，每個磨粒與試樣表面的接觸面積相對較大，能夠在單位時間內(nèi)去除更多的材料，因此對于去除試樣表面的氧化皮、毛刺、較大的加工余量或進(jìn)行快速粗磨等操作非常有效，能快速將試樣表面的大部分不平整和雜質(zhì)去除，使試樣達(dá)到初步的平整狀態(tài)。

雖然高目數(shù)砂紙磨樣效率相對較低，但能使試樣表面的劃痕變得更淺、更細(xì)密，逐漸消除粗砂紙留下的痕跡，使試樣表面達(dá)到更高的平整度和光潔度。在對試樣表面質(zhì)量要求的情況下，如進(jìn)行光譜分析，需要使用高目數(shù)砂紙進(jìn)行精磨，以確保試樣表面的狀態(tài)符合分析要求。但如果一開始就使用高目數(shù)砂紙對未經(jīng)粗磨的試樣進(jìn)行打磨，會花費(fèi)大量時間且效率極低。

如果試樣表面存在嚴(yán)重的氧化皮、毛刺或較大的加工余量，應(yīng)先用低目數(shù)的砂紙進(jìn)行粗磨，快速去除這些雜質(zhì)和不平整部分，如 40# - 60# 的砂紙，之后再用較高目數(shù)的砂紙進(jìn)行細(xì)磨和精磨。

對于一些對表面平整度和光潔度要求不是特別高的常規(guī)光譜分析，通常將試樣表面磨到 200# - 400# 砂紙的效果即可滿足要求，能去除表面雜質(zhì)并提供相對平整的表面，使光譜分析能夠順利進(jìn)行。

如用于研究材料微觀結(jié)構(gòu)、微量元素分析等光譜分析，對試樣表面質(zhì)量要求，需要將試樣表面打磨到非常高的光潔度，可能需要使用 600# 甚至 1000# 以上的砂紙進(jìn)行精細(xì)研磨和拋光，以確保表面的微觀結(jié)構(gòu)和成分不受磨削過程的影響，從而獲得準(zhǔn)確可靠的光譜數(shù)據(jù)。

使用合適的夾具將試樣牢固地固定在磨樣機(jī)的工作臺上或手持固定。對于形狀規(guī)則的試樣，可使用平口鉗等夾具；對于形狀不規(guī)則的試樣，可能需要定制夾具或采用蠟封等方法進(jìn)行固定，確保在磨樣過程中試樣不會發(fā)生位移或晃動。