在使用氧化鋁拋光液時(shí)，需要注意以下幾點(diǎn)：

1. 選擇適合的顆粒大小和穩(wěn)定劑類(lèi)型，根據(jù)需要進(jìn)行調(diào)配。

2. 在拋光過(guò)程中，控制拋光液的溫度、濃度和拋光時(shí)間，以避免對(duì)材料造成損傷。

3. 定期檢查拋光液的質(zhì)量和穩(wěn)定性，及時(shí)更換或補(bǔ)充添加。

氧化鋁拋光液適用于金相和巖相研磨、拋光外，還適用于各種黑色和有色金屬、陶瓷、復(fù)合材料以及寶石、儀表、光學(xué)玻璃等產(chǎn)品的高光潔度表面的研磨及拋光。極細(xì)的磨料能夠得到需要的超精拋光平面。

化學(xué)機(jī)械拋光（Chemical Mechanical Polishing，CMP）技術(shù)具有特的化學(xué)和機(jī)械相結(jié)合的效應(yīng)，是在機(jī)械拋光的基礎(chǔ)上，根據(jù)所要拋光的表面，加入相應(yīng)的化學(xué)試劑，從而達(dá)到增強(qiáng)拋光和選擇性拋光的效果?；瘜W(xué)機(jī)械拋光液的性能是影響化學(xué)機(jī)械拋光質(zhì)量和拋光效率的關(guān)鍵因素之一。拋光液一般包含氧化劑、絡(luò)合劑、表面活性劑、磨料、pH調(diào)節(jié)劑、腐蝕抑制劑等成分，各種添加劑的選擇和含量對(duì)拋光效果都會(huì)產(chǎn)生很大的影響。

納米氧化鋁拋光液具有移除速率高、懸浮分散性能好、對(duì)碳化硅晶圓表面無(wú)損傷、且表面粗糙度值極低、循環(huán)使用壽命長(zhǎng)、易清洗、通用性好等特點(diǎn)，適用于半導(dǎo)體碳化硅晶圓的CMP拋光。

氧化鋁拋光液和研磨材料適用于金相、巖相、復(fù)合材料的研磨及拋光等表面處理：
1、手機(jī)殼，陶瓷，玻璃、水晶、光學(xué)玻璃等振動(dòng)拋光（機(jī)器拋光、滾動(dòng)拋光）、手動(dòng)拋光（研磨拋光）等。人造寶石、天然寶石、鋯石、玉石、翡翠、瑪瑙。
2、單晶硅片等半導(dǎo)體、壓電晶學(xué)、光學(xué)晶體、光學(xué)玻璃、光學(xué)塑料、計(jì)算機(jī)硬盤(pán)、光學(xué)鏡頭、單芯光纖連接器、微晶玻璃基板、
3、鋁材、銅材、不銹鋼等金屬表面研磨拋光。
4、汽車(chē)油漆打磨拋光，樹(shù)脂拋光等，油漆表面、亞克力、非鐵金屬的表面拋光。
5、 劃痕去除：寶石、首飾、微晶玻璃、鋁板、鋼板、塑料殼、壓克力等劃傷劃痕；汽車(chē)，船舶等表面油漆出現(xiàn)的輕微劃痕等只要涂上少許拋光液，用海綿布或者拋光墊等在其表面來(lái)回拋磨，很快就光亮如新，無(wú)一點(diǎn)擦痕。

使用與用量：
推薦用量為1～20％，使用者應(yīng)根據(jù)不同體系經(jīng)過(guò)試驗(yàn)決定佳添加量。
◆ 以防少許沉淀，建議使用前先搖勻。
◆ 使用時(shí)，以不同濃度并據(jù)不同行業(yè)的需要可用過(guò)濾清潔水加以稀釋?zhuān){(diào)制不同濃度。